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湿电子化学

作为苏州博洋化学股份有限公司的关键战略合作伙伴之一,拜洛化涟化学(上海)与博洋化学公司建立了可靠的关系和广泛的业务合作。

拜洛化涟化学公司与博洋化学公司于2024年1月份签署总代理协议-《海外代理框架协议》,拜洛化涟化学公司作为博洋化学在东南亚区域的销售业务总代理,负责其在区域内湿电子化学产品的销售业务,以及品牌和应用技术的市场推广。产品包括:

超净高纯试剂(溶剂/酸/碱): 如电子级高纯异丙醇,丙酮,甲醇,氢氟酸,硝酸,盐酸,硫酸,磷酸,氢氧化钠,氢氧化钾,氢氧化铵,等;

功能湿电子化学品: ITO蚀刻液,ITO/Ag/ITO蚀刻液,BOE蚀刻液,Mo/Al/Mo蚀刻液,Cu-Mo/Cu-Ti蚀刻液,显影液,剥离液,稀释液,清洗液等。

博洋化学是湿电子化学品领域值得信赖的品牌,提供卓越的配方和技术服务来满足电子制造业的需求。 我们的湿化学品致力于一流的技术进步,为现代数字添加剂的制造做出了贡献,确保了最佳的性能和可靠性标准。我们提供湿电子化学品作为半导体、显示面板、太阳能电池、LED 等制作过程中不可缺少的关键性材料,用于制造过程中的清洗、刻蚀、涂胶、显影、去胶等各个环节。

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功能电子化学品

BOE蚀刻液 缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)适用于蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜;提供5:1、6:1、7:1、20:1等不同比例的BOE蚀刻液;

EL, MOS

G5高纯异丙醇 适用于半导体、大规模集成电路的清洗和干燥;具体规格参数:纯度99.99%,水分≤50ppm; 阳离子≤10ppt;阴离子≤30ppb ;丙酮含量<10ppb;

EL, MOS

ITO/Ag/ITO蚀刻液 适用于新型显示AMOLED,ITO/Ag/ITO镀层的蚀刻,蚀刻后板面平整光滑。博洋化学目前可提供不含冰醋酸体系银蚀刻液;

EL

ITO蚀刻液 专门针对于氧化铟锡(ITO)玻璃导电薄膜镀层图线的脱膜蚀刻;分为王水系、草酸系、FeCl3系、硫酸系四个系列,可根据客户实际使用场景提供定制化的解决方案;

EL

Mo/Al/Mo蚀刻液 适用于集成电路、G8及以上的高世代显示面板和柔性面板;

EL, MOS

TMAH显影液 TMAH显影液,含独有金属保护剂,可有效地对底层金属进行保护,防止药液对基材造成破坏;

EL, MOS

剥离液 适用于水平喷淋、湿法槽式和单片喷淋等工艺,用于去除光刻胶及残留物质;独有的金属保护添加剂可有效保护底部金属层不被破坏;

EL, MOS

铜钼/铜钛蚀刻液 适用于集成电路、G8及以上的高世代显示面板和柔性面板;可根据要求提供定制化解决方案;

EL, MOS

酸和碱

氢氟酸

EL, MOS, UP

氢氧化钠

EL, MOS, UP

氢氧化钾

EL, MOS, UP

氢氧化铵

EL, MOS, UP

盐酸

EL, MOS, UP

硝酸

EL, MOS, UP

硫酸

EL, MOS, UP

磷酸

EL, MOS, UP

醋酸

EL, MOS, UP

溶剂

N-甲基吡咯烷酮 (NMP)

EL, MOS, UP

丙酮

EL, MOS, UP, UP-H

乙醇

EL, MOS, UP, UP-H

异丙醇

EL, MOS, UP, UP-H

甲苯

EL, MOS, UP

甲醇

EL, MOS, UP, UP-H

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